简介
本书以图文并茂的形式，简要介绍了集成电路制程。以特征线宽130nm以下为重点，涉及到集成电路制造工艺的各个方面，特别是包括短波长光源、步进与扫描照相曝光系统、CMP平坦化、双大马士革Cu布线、低K介质材料、Soc与Sip等。
更多出版物信息
- 版权： 清华大学出版社
- 出版： 2009-12-01
- 更新： 2023-10-13
- 书号：9787302209591
- 中图：TN4
- 学科：工学电子科学与技术工学信息与通信工程交叉学科集成电路科学与工程
